T 008 |
Zigmas Balevičius ✉ |
Atominio storio sluoksnio nusodinimo taikymas nanofotoninių struktūrų formavimui |
Application of the atomic layer deposition for nanophotonic structures |
Temos aprašymas
Vis sparčiau vystantis optinių prietaisų technologijoms paremtoms nanofotoninėmis struktūromis iškyla poreikis kontroliuoti tokių nanostruktūrų gamybos procesus sub-nanometrinių matmenų ruože. Plonų sluoksnių bei nanostruktūrų nusodinimo technologijų kontrolė vieno atominio monosluoksnio skyra leidžia itin tiksliai valdyti nanofotoninių struktūrų optinį atsaką bei jį optimizuoti atsižvelgiant į jų taikymo pobūdį. Sluoksnių nusodinimo optimizavimas atominių sluoksnių lygmenyje itin svarbus uždavinys valdant įvairius paviršiaus rezonansinius efektus tokius kaip paviršinės Blocho bangos ar įvairūs plazmoniniai sužadinimai, taip pat, siekiant pagaminti daugiasluoksnius dielektrinius veidrodžius su didelio atspindžio koeficientais. Šiuo metu plačiai naudojami jonų pluoštų nusodimo metodai neužtikrina sluoksnių storių kontrolės vieno atominio monosluoksnio tikslumu. Šio disertacinio darbo metu atominio sluoksnio nusodinimo metodas bus taikomas siekiant optimizuoti nanofotoninių struktūrų optinį atsaką kontroliuojant sluoksnių storius sub-nanometriniame lygmenyje.
Theme description
Recently, the fast development of optical devices technologies based on nanophotonic structures arising a need to control the layer thicknesses at the sub-nanometric scale. The management of thin films and nanostructures deposition technology at the atomic monolayer scale gives possibilities to control the optical response of nanophotonic structures and optimized their optical properties. The thin film optimization at the sub-nanometer scale is very important for applications related with study of optical surface resonances such as Bloch surface wave, plasmonics or in order to produce distributed feedback reflectors with very high coefficient of refraction. The Ion Beam Sputtering (IBS) method do not ensures the deposition resolution of the thin film at the sub-nanometer scale. During this Ph.D. thesis atomic layer deposition (ALD) will be employed for optimization of optical response of the layers thicknesses in the nanophotonic structures at the atomic monolayer scale.