Doktorantūra

  • Selektyvus metalinių mikro struktūrų formavimas ant skaidraus dielektriko paviršiaus, panaudojant kombinuotas ultratrumpųjų impulsų lazerines ir chemines technologijas
Atgal

Selektyvus metalinių mikro struktūrų formavimas ant skaidraus dielektriko paviršiaus, panaudojant kombinuotas ultratrumpųjų impulsų lazerines ir chemines technologijas

T 008

Karolis Ratautas 

Selektyvus metalinių mikro struktūrų formavimas ant skaidraus dielektriko paviršiaus, panaudojant kombinuotas ultratrumpųjų impulsų lazerines ir chemines technologijas

Selective formation of metallic microstructures on transparent dielectrics utilising combined ultrashort pulse laser and chemical technologies

Temos aprašymas
Šiuo darbu siekiama ištirti metalo mikro-struktūrų formavimą ant įvairių stiklų ir skaidrių polimerų panaudojant lazerines ir chemines technologijas. Tyrimams bus taikomi ultratrumpųjų impulsų lazeriai selektyviam paviršiaus aktyvavimui ir kombinuotos cheminės technologijos metalo padengimui – besrovis katalitinis ir galvaninis metalo nusodinimai. Yra daugybė fizikinių ir cheminių proceso neapibrėžtumų ribojančių mikro-struktūrų < 8 µm formavimo dėsningumus, naudojant kombinuotą lazerinį-cheminį selektyvų metalo nusodinimą ant skaidrių dielektrinių medžiagų, todėl problema yra aktuali moksliniu požiūriu. Mano žiniomis šiuo metu nėra žinomų kombinuotų lazerinių, cheminių technologijų galinčių suformuoti plika akimi nepastebimas mikrostruktūras skaidraus dielektriko paviršiuje, panaudojant elektrinio laidininko formavime. Tokios struktūros suformuotos ant stiklo ar skaidraus polimero, galėtu pakeisti brangų ir retas medžiagas naudojantį Indžio Titano Oksido (ITO) skaidrųjį elektrodą lietimui jautrių ekranų taikymuose. Bus analizuojami fizikiniai ir cheminiai procesai lemiantis selektyvų mikrostruktūrų auginimo dėsningumus, nustatomos ribos, bei ieškomi būdai proceso optimizavimui, naudojant.

Theme description
For more information, please contact the theme supervisor.