Inovacijos ir paslaugos

Nusibodo neatspari lazerių optika? Turime sprendimą!

 
FTMC turi dešimtmečių patirtį kuriant ir gaminant optines dangas įvairioms reikmėms ir skirtingiems bangų ilgiams. Tiesiog pasakykite mums optikos paskirtį ir norimą bangos ilgį, ir mes pagaminsime dangą, kuri puikiai atitiks jūsų poreikius. Čia mūsų sukurtų technologijų ir teikiamų paslaugų pavyzdžiai:
 

Silicio oksido pagrindu suformuoti aukšto atspindžio veidrodžiai, skirti didelių galių lazeriams

Standartinių optinių dangų atsparumas lazerinei spinduliuotei paprastai yra apribotas jas sudarančių didelio lūžio rodiklio medžiagų. Optinių Dangų Laboratorijoje išvystyta garinimo kampu technologija leidžia suformuoti optines dangas (tiek skaidrinančias, tiek atspindinčias) vien iš silicio oksido medžiagos, kuri pasižymi vienu didžiausių lazeriu indukuotos pažaidos slenksčiu. Šių dangų struktūrinių ir optinių tyrimų rezultatai rodo SiO2 pagrindu suformuotų dangų privalumus. Minėtus komponentus lyginant su standartinėmis dangomis, stebimas ženkliai didesnis SiO2 daugiasluoksnių interferencinių dangų optinis atsparumas. Šia metodika galima formuoti ne tik vienbangius veidrodžius ir skaidrinančias dangas, bet ir sudėtingesnius komponentus: filtrus, šviesos ir spektro daliklius ir kt. Naudojantis šia technologija FTMC Optinių dangų Laboratorijoje buvo pademonstruotas aukšto atspindžio veidrodis, kurio pačios dangos vidinis atsparumas didesnis nei 65 J/cm2 ties 355 nm bangos ilgiu, matuojant ns režime.

T. Tolenis, L. Grinevičiūtė, L. Smalakys, M. Ščiuka, R. Drazdys, L. Mažulė, R. Buzelis and A. Melninkaitis, Next generation highly resistant mirrors featuring all-silica layers, Sci. Rep., Accepted, 2017 

 

 

Padėklų paviršiaus ėsdinimo paslaugos

Pagrindinis optinių pagrindukų (stiklų, kristalų) paviršiaus ėsdinimo plazma technologijos tikslas yra jų paviršiaus paruošimo esminis patobulinimas, gaminant pralaidžius optinius komponentus, skirtus didelės galios lazeriams.
 
Poliruoti pagrindukai turi taip vadinamą Bilbio (Beilby) sluoksnį, užterštą poliravimo likučiais. Šis sluoksnis efektyviai sugeria lazerio spinduliuotę ir taip mažina pralaidžių (skaidrintų, poliarizuojančių, dalinančių pluoštą) optinių komponentų optinį atsparumą.
 
Mūsų sukurtas mažos energijos plazmos ėsdinimas pašalina užterštą Bilbio sluoksnį. Tyrimai rodo, jog plazma ėsdinto nedengto optinio pagrinduko lazerio indukuotos pažaidos slenkstis (LIDT) UV spektriniame diapazone padidėja iki 3-4 kartų, o NIR diapazone – iki 2 kartų. Taip pat svarbu, jog šio proceso metu nėra sugadinamas pradinis optinio paviršiaus šiurkštumas. Plazma ėsdinto ir padengto skaidrinančia (AR) danga, optimizuota 355 nm bangos ilgiui, LIDT padidėjo 3.4 karto. Išvystyta plazminio ėsdinimo technologija taip pat buvo sėkmingai pritaikyta kelių rūšių skirtingiems kristalams ir taip ženkliai padidintas jų LIDT NIR diapazone.
 
 

 

Tikrosios nulinės-eilės fazinės plokštelės pagamintos SiO2 plonų sluoksnių pagrindu 

Amorfines medžiagas nusodinant garinimo kampu metodika galima suformuoti dangas, pasižyminčias optiniu anizotropiškumu. Proceso metu, laikant padėklus tam tikru kampu, inicijuojamas atomų savi-šešėliavimosi reiškinys dėl kurio dangos struktūra formuojasi iš pasvirų, su eliptiniu skerspjūviu, kolonų. Kombinuojant tokius anizotropinius porėtus sluoksnius su tos pačios medžiagos tankiais sluoksniais, galima kurti norimo dizaino optines interferencines dangas. Taip pat, dėl optinio dvejopalaužiškumo savybės, galima viriuoti fazės užvėlinimu statmenoms poliarizacijoms ir tokiu būdu suformuoti tiek standartines λ/2 ir λ/4, tiek ne standartines fazines plokšteles. Tokie elementai pasižymi itin mažais optiniais nuostoliais (pralaidumas ~99%) ir dideliu atsparumu lazerinei spinduliuotei – 40 J/cm2 (nanosekundiniame režime, 355 nm bangos ilgiui). Dangų pagrindu suformuotos fazinės plokštelės gali būti gaminamos bet kuriam bangos ilgiui nuo gilaus UV iki IR spektrinio diapazono. Kadangi šis elementas sudarytas iš plonų sluoksnių, jis gali būti formuojamas ant bet kokio paviršiaus: netiesinių kristalų, veidrodžių, stiklų ir t.t. Ką tik paminėtas lankstumas leidžia pritaikyti šias fazines plokšteles tiek mikrolazeriuose, tiek dideliuose galinguose įrenginiuose.

L. Grinevičiūtė, M. Andrulevičius, A. Melninkaitis, R. Buzelis, A. Selskis, A.Lazauskas, and T. Tolenis, "Highly Resistant Zero-Order Waveplates Based on All-Silica Multilayer Coatings", Phys. Status Solidi A, 17007, 2017 

 

 

Metalinės dielektrinės dangos

Metalinės dielektrinės dangos gali būti plačiai naudojamos įvairiose srityse nuo optinių elementų iki jutiklių. Tokias dangas paprastai sudaro keli metaliniai ir dielektriniai sluoksniai. Gaminti tokias konstrukcijas labai tiksliai, ypač metalo sluoksniams, yra didelis iššūkis. Net labai mažos klaidos sluoksnio nusėdimo metu gali lengvai sukelti visos dangos klaidas.

Mūsų specialios proceso valdymo technologijos leidžia paruošti norimas dangas iki nanometrų tikslumo. Ši technologija pagrįsta dulkinimo proceso ir specialios plėvelės augimo stebėjimo deriniu. Dulkių purškimo technologija yra gana išvystyta ir nusistovėjusi. Tai gerai žinoma dėl didelio dangos tankio ir proceso pakartojamumo.
Mūsų specialus sprendimas susijęs su specialia stebėjimo technologija, kuri paremta metalo plėvelės augimo in situ valdymu. Tiksliai apibūdinome įvairius metalinius filmus. Metalinės plėvelės ant dielektrinio paviršiaus gali būti suformuotos kaip: 1) atskiros salos; ii) salų salos ir iii) ištisinė plėvelė. Atsižvelgiant į prašymą, tokios konstrukcijos gali būti kontroliuojamos.
 
 

Infraraudonųjų spindulių diapazono dangos

Silicis yra medžiaga, kuri domina 3–5 mikronų juostoje, o germanis yra plačiai naudojama medžiaga 8–12 mikronų juostoje.

Mes sukūrėme tokių dangų paruošimo dulkinimo būdu technologiją. Dulkių purškimo technologija yra gana išvystyta ir nusistovėjusi. Tai gerai žinoma dėl didelio dangos tankio ir proceso pakartojamumo.

Slėpimo metu naudojame proceso stebėjimo technologiją, kad būtų užtikrintas aukštas proceso tikslumas. Be to, mes tiksliai apibūdinome įvairius puslaidininkių filmus ir turime galimybę modeliuoti ir parodyti norimų struktūrų spektrus. 

Nelaukite ligi sudegs jūsų lazeris – užsisakykite jau dabar! 

 
 

Susisiekite su mumis

Norėdami užsakyti paslaugą ar gauti papildomos informacijos, susisiekite su mumis Jums patogiausiu būdu: el. paštu customer@ftmc.lt, žemiau nurodytais kontaktais arba užpildydami užklausos formą. Atsakysime per 2 darbo dienas.

 

Kontaktai


Karolis Stašys

Innovation Manager / Inovacijų vadybininkas

Tel.: +370 629 85166
El.p.: karolis.stasys@ftmc.lt